我国从二十世纪七十年代初开始研究CVD涂层技术，由于该项技术专用性较强，国内从事研究的单位并不多。八十年代中期，我国CVD刀具涂层技术的开发达到实用化水平，工艺技术水平与当时的国际水平相当，但在随后的十多年里发展较为缓慢(与国外研究状况类似);九十年代末期，我国开始MT-CVD技术的研发工作，MT-CVD工艺及装备的研究开发预计可在2001年内基本完成，根据研究目标，工艺技术及设备将达到当前国际先进水平;我国PCVD技术的研究始于九十年代初，PCVD工艺技术主要用于模具涂层，目前在切削刀具领域的应用还十分有限。总体而言，国内CVD技术的总体发展水平与国际水平差距不大，待MT-CVD技术开发成功，我国在刀具CVD涂层领域的整体水平将可与国际先进水平基本保持同步。